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3D目标战反射衰减目标到达国际尺度
发布时间: 2019-11-26       浏览次数:

  1、 光通信范畴,共同公司特地为光纤毗连器开辟的抛光产物,能达到超精细抛光结果,抛光后毗连器端面没有划伤和缺陷,3D目标和反射衰减目标达到国际尺度。

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  3、 硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛,具有抛光速度高,抛光后易清洗,概况粗拙度低,可以或许获得总厚误差(TTV)极小的质量概况。

  氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺出产的一种高纯度低金属离子型抛光产物。普遍用于多种材料纳米级的高平展化抛光。如:硅片、化合物晶体、细密光学器件、宝石等的抛光加工。

  按照分歧的抛光要求可分为分歧粒度(10~150 nm)的产物。按照pH值的分歧可分为酸性抛光液和碱性抛光液。